Intel安装首套二代High-NA EUV 为14A工艺铺平门路
近日，Intel宣布已安装ASML最新的TWINSCANEXE:5200B光刻系统，这是全球首套、也是目前最先进的第二代High-NAEUV光刻系统，将用于Intel14A节点制程。此前，Intel曾于2023年底接收了首套High-NAEUV机型EXE:5000，并在俄勒冈州的FabD1X工厂完成了早期技术研发与人才储备，而此次落地的EXE:5200B则在生产力与精度上实现了提升。
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